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單氣路等離子清洗機(jī)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

單氣路等離子清洗機(jī),主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用"達(dá)到去除物體表面污漬的目的

詳細(xì)介紹

單氣路等離子清洗機(jī),主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用"達(dá)到去除物體表面污漬的目的。等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四中狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

等離子技術(shù)-盡皆可能,等離子雖然是一門(mén)新興學(xué)科,但是其在科學(xué)研究各方面已經(jīng)取得了廣泛的運(yùn)用,涉及材料學(xué),光學(xué),電子學(xué),醫(yī)藥學(xué),環(huán)境學(xué) 生物學(xué)等不同領(lǐng)域。等離子應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過(guò)這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。這項(xiàng)技術(shù)可以應(yīng)用于多種領(lǐng)域。

等離子技術(shù)的優(yōu)勢(shì)

相比于其他工藝,如火焰處理或濕法化學(xué)處理,等離子技術(shù)優(yōu)勢(shì)明顯

提高工藝效率

•杰出的環(huán)保工藝

•被處理的部件不會(huì)發(fā)生機(jī)械變形

•低溫工藝

•低運(yùn)營(yíng)成本

•高工藝可靠性及高操作安全性

•幾乎無(wú)須考慮材料的幾何外形

•許多表面性質(zhì)只能通過(guò)此工藝獲得

•通用適用工藝全自動(dòng)化應(yīng)用

序號(hào)

型號(hào)

PC-3S

PC-6S

PC-3D

PC-6D

1

射頻頻率

40KHz

40KHz

40KHz

40KHz

2

艙體容積

2.7L

4.5L

2.7L

4.5L

3

射頻功率

10-200W數(shù)字可調(diào)

10-200W數(shù)字可調(diào)

10-200W數(shù)字可調(diào)

10-200W數(shù)字可調(diào)

4

時(shí)間設(shè)定

1-99分59秒

1-99分59秒

1-99分59秒

1-99分59秒

5

壓力穩(wěn)定時(shí)間

180

180

180

180

6

真空度

101par

101par

101par

101par

7

電 源

220V 50/60HZ

220V 50/60HZ

220V 50/60HZ

220V 50/60HZ

8

整機(jī)電 流

3A

3A

3A

3A

9

等離子激發(fā)方式

電容式

電容式

電容式

電容式

10

氣體通路

單氣路

單氣路

雙氣路

雙氣路

11

艙體尺寸

265X95

265X145

265X95

265X145

12

外形尺寸L*W*H

500*300*300MM

500*350*350MM

500*300*300MM

500*350*350MM

13

整機(jī)重量

15kg

20kg

15kg

20kg

一、清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個(gè)工藝流水線的處理效率

二、等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害,同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問(wèn)題;

三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性

四、采用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強(qiáng),這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù),因此不需要過(guò)多考慮被清洗物體的形狀。而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好

五、使用等離子清洗,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn)

六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很容易達(dá)到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高,加上清洗過(guò)程不需要使用價(jià)格較為昂貴的有機(jī)溶劑,這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝

七、使用等離子清洗,避免了對(duì)清洗液的運(yùn)輸、存儲(chǔ)、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場(chǎng)地很容易保持清潔衛(wèi)生

八、等離子體清洗可以不分處理對(duì)象,它可以處理各種各樣的材質(zhì),無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂等高聚物)都可以使用等離子體來(lái)處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗

九、在完成清洗去污的同時(shí),還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤(rùn)濕性能、改善膜的黏著力等,這在許多應(yīng)用中都是非常重要的

十.儀器無(wú)需進(jìn)行特殊的日常維護(hù),使用壽命長(zhǎng)。

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